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Alto horno del vacío del laboratorio de la película de la conductividad para la producción de la grafitización de la película del pi

Precio: negotiable MOQ: Negociable
Nombre Horno de la grafitización
Temperatura de funcionamiento máximo 3000℃
Temperatura común 2800℃
Uniformidad de la temperatura ° C del ± 25 del ≤
Exactitud del control de la temperatura °C ±1
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